Система Ion OneTouch 2 выполняет усиление и обогащение шаблонов в рамках ручного рабочего процесса для систем Ion PGM, Ion Proton, Ion S5 и Ion S5 XL. Он обеспечивает масштабируемую подготовку шаблона для всех полупроводниковых чипов Ion. Благодаря своей небольшой площади, система легко помещается на любом рабочем столе.

Система Ion OneTouch 2 объединяет несколько этапов ручной подготовки шаблонов в единую систему. Это позволяет выполнять параллельную обработку нескольких образцов в день за счет модульной конструкции. Он является гибким и поддерживает масштабируемую подготовку шаблонов для всех микросхем Ion Semiconductor Sequence: до 400 баз в чипах Ion 520/530, до 200 баз в чипе Ion 540, до 400 баз в системе Ion PGM и до 200 оснований по Ионно-Протонной Системе. Потребность в газе устраняется применением перистальтического насоса.