Вольтамперометрический анализатор TA-Lab предназначен для измерения содержания токсичных микроэлементов (As, Cd, Pb, Cu, Zn, Mn, Hg, Se, I, Ni, Co, Fe, Ag, Sb, Bi, Fe, Sn) в питьевых, природных, сточных водах, воздухе, водных растворах проб почв, пищевых продуктах, продовольственном сырье, биологических образцах и других объектах вольтамперометрическими методами.

 

Технические характеристики:

Диапазон измерений, 102-106 нг/м3;

Пределы допускаемой относительной погрешности измерений массовых концентраций ионов цинка, кадмия, свинца и меди в аттестованных смесях от 102 до 5*103 нг/м3 вкл., ±25 %;

Пределы допускаемой относительной погрешности измерений массовых концентраций ионов цинка, кадмия, свинца и меди в аттестованных смесях от 5*103 до 106 нг/м3 вкл., ±20 %;

Количество источников УФ-излучения, 2 шт;

Одновременный анализ проб, 3 шт;

Время анализа трех подготовленных проб, 5-30 мин;

Барботаж анализируемых растворов озоном;

Материал корпуса, коррозионностойкая сталь;

Встроенный Bluetooth-модуль для беспроводной связи с ПК;

Габариты, ШхГхВ, 265х262х103 мм;

Масса, 2,5 кг.

 

Комплект поставки:

АмЭ электрод амальгамный с защитным колпачком*, 4 шт;

ХСЭ электрод хлорсеребряный с защитным колпачком*, 7 шт;

Корпус для хлорсеребряного электрода, 3 шт;

Дозатор автоматический механический (0,005-0,050 мл)*, 1 шт;

Стаканчик кварцевый, 20 мл, 7 шт;

ГСО состава водного раствора ионов кадмия*, 5 мл;

ГСО состава водного раствора ионов свинца*, 5 мл;

ГСО состава водного раствора ионов меди*, 5 мл;

ГСО состава водного раствора ионов цинка*, 5 мл;

ПК с предустановленным программным обеспечением ТА-Lab и видеоматериалами по освоению вольтамперометрического метода анализа;

ПО TA-Lab.

 

*Тип электродов и ГСО, а также наличие в комплектации дозатора согласовывается при покупке анализатора.

 

Аксессуары для прибора, Томьаналит:

ХСЭ электрод хлорсеребряный;

АмЭ электрод амальгамный;

Электрод углеродсодержащий;

СЭМ электрод серебряный модифицированый;

Корпус хлорсеребряного электрода;

Раствор для модифицирования поверхности углеродсодержащих электродов.